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        高光譜測試系統

        產品簡介

        高光譜測試系統基于offner型的凸面光柵分光系統,其原理新穎,相比較其他分光系統具有光學相對孔徑大、色散線性度好、結構 緊湊和圖像成像質量佳等優點。

        產品型號:
        更新時間:2025-04-23
        廠商性質:生產廠家
        訪問量:1946
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        高光譜測試系統

         

        • 基于offner型的凸面光柵分光系統,其原理新穎,相比較其他分光系統具有光學相對孔徑大、色散線性度好、結構 緊湊和圖像成像質量佳等優點。該種類型組成的成像光譜儀在效率(能量利用率)和光學畸變相比較其他類型的成 像光譜儀中性能表現.佳。系統中由于采用專門研制的閃耀光柵,平均效率高達60%以上,替代了美國headwall 高效率成像光譜儀系列產品(注:該類型產品被美國列為為禁運)。匹配的相機采用SCMOS相機,平均量子效率 高達60%,靈敏度和性能達到了EMCCD 相機的水平。

        高光譜測試系統核心優勢:

        • 全反射光學設計; F/2.2 大通光孔徑
        • 高效率凸面光柵;消除梯形失真和曲線彎曲
        • 寬波譜范圍;杰出的光譜/空間分辨率
        • 理想的弱照明、弱信號環境下的應用
        • 結構緊湊、寬視場角
        • 非常高的信噪比;低散射或者雜散光水平
        • 穩定和耐用的堅固設計;高性價比,多種標準鏡頭選配

        名稱

        VNIR成像光譜儀

        SWIR成像光譜儀

        SWIR成像光譜儀

        光譜范圍(nm)

        400-1000

        900-1700

        1000-2300

        分光類型

        凸面光柵分光

        光譜分辨率(狹縫25um)

        3-4 nm

        優于10 nm

        10nm

        光譜分辨率(狹縫12um)

        1.5-2 nm

        優于5nm

        /

        光學孔徑F/#

        F/2.2

        狹縫高度

        12mm

        像素色散值

        0.6nm

        3.6nm/pixel

        7nm

        光譜波長精度(nm)

        優于1

        優于2

        優于4

        光學系統效率(平均)

        60%

        光譜通道

        256-1152(可編程)

        220

        空間通道

        2048

        320

        SCMOS相機

        像元:6.5um*6.5um像元 數:2048*1152 QE>70%@595nm

        像元:15um*15um 像元數:640*512

        像元:30um*30um 像元數:320*256

        數據量化位數

        16

        12

        前置鏡頭

        焦距17mm

        焦距4.8-70mm,可選配

        儀器重量(kg)

        4.2

        4.5

        尺寸(mm)

        215*175*110

        260*175*110

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